A的分子式为C₂H₆O₂，以A为原料，按下图所示流程合成一种常用的光敏高分子材料G，其结构简式为：。

已知：①—CH₂OH+—CH₂OH—CH₂OCH₂—+H₂O
②++H₂O
请回答下列问题：
（1）A的名称是               ：F—→G的反应类型是               
B的核磁共振氢谱上共有      种吸收峰。
C的结构简式是                          。
A—→B的化学方程式是                                  。
B+D—→E的化学方程式是                                  。
写出同时满足下列条件的D的所有同分异构体的结构简式：                   
                                                                            
①属于酯类且苯环上只有一个取代基     ②除苯环外不再含其他环状结构