三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

首页 / 试题 / 高中化学 / 试题详细

科目：化学
题型：选择题
难度：中等
人气：793

挑错有奖加入试题篮

题文

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5 H₂O 2NO+HNO₃+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂	B．HF是还原产物
C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1	D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

登录并查看解析

推荐试卷

热门试卷